本设备采用的是我公司自行研制的扫频激励的方式,速度快,范围广,激励效果更好等优点。扫频方式的具体做法是,从低频开始一直到高频逐渐升高频率,每个频点都激励一遍,让晶体充分起振,从而清洗掉附着在晶片上的污染物,达到清洗效果。本设备设计立式支架型(非桌上型),对7050、6035、5032、4025、3225、2520等石英晶体半成品进行电清洗(又叫高激励),在激励的同时用氮气吹,真空吸等手段保证清洗效果。